Fraunhofer-Institut für Mikrostruktur von Werkstoffen und Systemen IMWS
Vorhaben
Entwicklung einer maskenlosen anisotropen Plasmatexturierung von Siliziumnitrid (SiN) für die industrielle Massenfertigung in der Photovoltaik (Black-SiN)
Zeitraum
25. September 2019 - 30. September 2020
Projektziel
Rezeptentwicklung der „Black-SiN“ Textur
Mikrostrukturelle Untersuchung der „Black-SiN“ Textur
Bestimmung der Reaktionskinetik und der Korrelation zwischen der Textur und deren optischer Eigenschaften
Optimierung der optoelektrischen Eigenschaften FDTD-Simulationen der optimalen Morphologie
Entwicklung eines Gerätekonzeptes
Projektleiter
Dr. Sylke Meyer