Verfahren und Anordnung zur Entstaubung von Objektoberflächen

Objekt das mit Staub bedeckt ist
© Fraunhofer CSP
Mit transparenter, schwach leitfähiger Schicht beschichtete Probenbereiche erfahren eine Staubentfernung bis ~1 cm Distanz zur Metallelektrode (Bildmitte)

Bei dieser Erfindung handelt es sich um eine Technologie zur Entstaubung der Oberfläche eines Objekts. Bei dem Verfahren werden an der Oberfläche zeitlich und örtlich über die Oberfläche variierende elektrische Felder erzeugt. Die elektrischen Felder werden dabei über eine geschlossene Schicht mit geringer elektrischer Leitfähigkeit erzeugt. Diese Schicht ist durch eine Isolationsschicht von einer sich darunter befindlichen elektrisch leitfähigen Schicht getrennt.

Die variablen elektrischen Felder werden erzeugt, indem an die obere Schicht Spannungspulse oder eine Wechselspannung geeigneter Schwingungsform angelegt wird, während die untere elektrisch leitfähige Schicht mit einem Bezugspotenzial verbunden ist. Das Verfahren erfordert keine Strukturierung von Elektroden auf der Oberfläche und lässt sich damit kostengünstig realisieren.

Marktpotenzial

Anwendungspotenzial ist in der Photovoltaik vorhanden, da Solarmodule in zunehmendem Maße in staubigen Umgebungen installiert werden. Eine konkrete beispielhafte Anwendung ist die Ausrüstung von Einstrahlungssensoren sowie schwer zugängliche PV-Kleinanlagen (Inselsysteme), z. B. auf Laternenmasten unter staubigen Umweltbedingungen.

Veröffentlichungsnummer: DE 10 2016 222 989